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晶體出現(xiàn)率分析儀

更新時(shí)間：2024-07-12

訪問(wèn)量：2101

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

設(shè)備型號(hào)：ZMP960

簡(jiǎn)要描述：

ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過(guò)專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái)，將顆粒圖像信息采集下來(lái)并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測(cè)量參數(shù)，并通過(guò)顯示器和打印機(jī)輸出。

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產(chǎn)品介紹：

品牌	其他品牌	產(chǎn)地	國(guó)產(chǎn)
產(chǎn)品新舊	全新	自動(dòng)化程度	全自動(dòng)

ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過(guò)專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái)，將顆粒圖像信息采集下來(lái)并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測(cè)量參數(shù)，并通過(guò)顯示器和打印機(jī)輸出。

晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測(cè)量范圍及高分辨率，同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測(cè)量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。